産業技術総合研究所（産総研）は、2023年9月に、チタン酸バリウム（BTO）の立方体単結晶単層膜と多層グラフェン膜を交互に積層するプロセス技術を開発しました。これにより、積層セラミックコンデンサー（MLCC）内部の誘電層と電極層を大幅に薄層化することができます。
産総研は以前から、BTOナノキューブの合成に水熱法を使用し、厚み約20nmの単層膜を作成してきました。今回は、これを誘電層として利用するために、交互積層化技術を開発しました。
この研究では、約20nmサイズのBTOナノキューブの単層膜と、厚みが2〜3nmの多層グラフェンを交互に重ね合わせるためのプロセス技術が開発されました。具体的には、BTOナノキューブ単層膜を下部電極基板に転写し、その上にシート状の多層グラフェンを転写する工程を繰り返し行います。
これにより、交互積層したグラフェン／BTOナノチューブ単層膜の構造を作ることが可能となりました。また、従来の焼き固め方式に比べて、誘電層の厚みは10分の1以下、電極層の厚みは100分の1以下に薄層化することができます。
&Buzzとしては、産総研の新たなプロセス技術に注目しています。この技術が実用化されると、積層セラミックコンデンサーの性能向上や、小型化などの可能性が広がると考えられます。産総研の研究員たちの取り組みを見守っていきたいと思います。
この &Buzzニュースは、Itmedia.co.jpのニュースをAndbuzzが独自にまとめたもの。
